天眼查APP显示,近日,浙江求是半导体设备有限公司,浙江晶盛机电股份有限公司申请的“气体环境管理系统、方法及碳化硅外延炉”专利公布。
摘要显示,本申请提供一种气体环境管理系统、方法及碳化硅外延炉,碳化硅外延炉包括反应舱、上下料舱、中转舱以及上述气体环境管理系统,气体环境管理系统与碳化硅外延炉的反应舱、气体环境管理系统与碳化硅外延炉的中转舱、气体环境管理系统与碳化硅外延炉的上下料舱分别独立连接,且气体环境管理系统独立控制反应舱、中转舱和上下料舱的气体环境,当任一反应舱内进行化学气相沉积工艺并维持其反应气体环境的同时,气体环境管理系统能够改变中转舱以及上下料舱的气体环境,气体环境管理系统能够使得中转舱以及上下料舱均具备两种非反应气体环境。通过上述设置,可以提高碳化硅外延炉的生产效率。
(责任编辑:郭健东 )
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