天眼查APP显示,近日,芯联集成电路制造股份有限公司申请的“RC-IGBT及其制造方法”专利公布。
摘要显示,本发明提供一种RC?IGBT及其制造方法,所述RC?IGBT包括衬底,所述衬底包括IGBT区和FRD区,所述FRD区具有低掺杂浓度的阳极区,本发明提供的制造方法,在通过沉积导电材料并回刻导电材料以在IGBT区上方的接触孔内形成导电插塞之后,再进一步利用刻蚀工艺,至少去除位于FRD阳极区上方的金属阻挡层,使得后续形成的正面金属层与FRD区的阳极区直接形成电连接,本发明提供的所述制造方法,通过精简的工艺步骤,有效降低了FRD阳极区的接触电阻,且可以无需增加额外的光罩,成本效益高。
(责任编辑:刘畅 )
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