至纯科技等公布“一种防止底部挂液的喷嘴组件”专利

天眼查APP显示，近日，上海至纯洁净系统科技股份有限公司,至微半导体（上海）有限公司申请的“一种防止底部挂液的喷嘴组件”专利公布。 摘要显示，本发明公开了晶圆清洗领域的一种防止底部挂液的喷嘴组件，包括臂状外壳、喷嘴结构、底壳以及吹气管，臂状外壳呈水平设置并外接机械臂，喷嘴结构朝下配置，底壳固定设置于臂状外壳底部，并与其底壁密闭连接形成内腔，底壳上设有用于避让喷嘴结构的避让通孔，吹气管连通内腔与惰性气源，底壳的底壁上形成有均匀且密集的微孔，微孔的朝向被配置为使惰性气体吹向喷嘴结构的外壁。本发明利用这种集成在ARM上的自清洁结构，通过定向气流即时清除喷嘴结构外部的残挂化学液，有效防止药液滞留结晶形成颗粒，从而消除了对晶圆的二次污染风险。

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