芯源微公布“一种方形基板双面UV照射清洗装置”专利

天眼查APP显示，近日，沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的“一种方形基板双面UV照射清洗装置”专利公布。 摘要显示，本发明属于半导体设备技术领域，具体地说是一种方形基板双面UV照射清洗装置，包括光源、主结构箱体、照射工艺腔体边框、基板承接升降组件、承片台、密封环、承片台升降组件、X轴移动组件、基板翻转组件。本发明使用时仅需对承片台、密封环、照射工艺腔体边框以及盖在照射工艺腔体边框上的光源外壳的底部所包围形成的照射工艺空间进行气体排出，所需排出气体的量大幅度减少，有效减少清洗作业耗时。本发明通过基板承接升降组件、承片台、密封环、承片台升降组件、X轴移动组件、基板翻转组件的设置，可在主结构箱体中即能完成方形基板的传递及翻面动作，从而能够高效完成方形基板的顶面及底面的UV照射清洗，提高设备运行效率。

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