格林达等公布“一种负性光刻胶显影用gemini表面活性剂及其显影液”专利

天眼查APP显示，近日，杭州格林达电子材料股份有限公司,合肥格林达电子材料有限公司,北京科技大学申请的“一种负性光刻胶显影用gemini表面活性剂及其显影液”专利公布。 摘要显示，本发明涉及gemini表面活性剂技术领域，属于一种负性光刻胶显影用gemini表面活性剂。本发明还公开一种显影液，包含上述的负性光刻胶显影用gemini表面活性剂，所述gemini表面活性剂重量份为2～10%，所述显影液还包括5～15%重量份的碱性物质，余量为水。所述碱性物质为氢氧化钾、四甲基氢氧化铵和四乙基氢氧化铵中的一种，所述碱性物质的浓度为8%～12%，所述表面活性剂的浓度为4%～8%。

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