天眼查APP显示，近日，万华化学集团股份有限公司申请的“一种光刻胶树脂及其制备方法与应用”专利公布。
摘要显示，本发明公开了一种光刻胶树脂及其制备方法与应用，所述光刻胶树脂由包含酸敏单体a、极性单体b、丙烯酰胺单体c通过聚合反应制得，在ArF浸没式光刻领域应用时，可以减少光酸等小分子的浸出，并且可以增大光刻胶接触角，降低水的残留。
（责任编辑：张晓波 ）
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