天眼查APP显示,近日,广州方邦电子股份有限公司,珠海达创电子有限公司申请的“一种埋阻金属箔及其应用”专利公布。
摘要显示,本发明提供了一种埋阻金属箔及其应用,所述埋阻金属箔包括导电层和设置在所述导电层至少一侧表面的电阻层,所述电阻层包括镍、铬元素,沿所述埋阻金属箔的厚度方向,从靠近所述导电层一侧的面开始,所述电阻层中镍的质量含量先减小后增大,铬的质量含量先增大后减小。本发明提供的埋阻金属箔,电阻层中的铬含量并非定值,而是随厚度变化的,本发明通过控制铬含量在电阻层中的变化,使材料兼具良好的可蚀刻加工性与优异的中高温苛刻环境耐蚀性,可以更好地适配高端装备,满足恶劣环境下电子系统对埋阻金属箔的性能需求,突破常规材料在特种场景下的应用限制。
(责任编辑:张晓波 )
【免责声明】本文仅代表作者本人观点,与和讯网无关。和讯网站对文中陈述、观点判断保持中立,不对所包含内容的准确性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保证。请读者仅作参考,并请自行承担全部责任。邮箱:news_center@staff.hexun.com
最新评论